特許
J-GLOBAL ID：202103003914874890

金属酸化物の還元除去方法

発明者：
青山 麻衣

青山 麻衣 について

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武田 玄太郎

武田 玄太郎 について

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▲高▼橋 秀行

▲高▼橋 秀行 について

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和泉 亮

和泉 亮 について

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片宗 優貴

片宗 優貴 について

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北原 拓海

北原 拓海 について


出願人/特許権者：
JFEスチール株式会社

JFEスチール株式会社 について

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国立大学法人九州工業大学

国立大学法人九州工業大学 について


代理人 (1件)： 苫米地 正敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-047590
公開番号（公開出願番号）：特開2021-147654
出願日： 2020年03月18日
公開日（公表日）： 2021年09月27日
要約：
【課題】鋼材製造過程において金属酸化物を適切かつ効率的に還元除去することができ、特に、Si、Mnの選択酸化により高強度鋼板の表面に生成した難還元性の酸化物などについても適切かつ効率的に還元除去することができる方法を提供する。【解決手段】鋼材製造過程において、金属酸化物xをホットワイヤー法を用いて還元除去する方法であり、水素原子含有ガスgを加熱された触媒体Aに接触させ、この接触による水素原子含有ガスgの分解反応により生じた化学種を、400°C以上の温度の金属酸化物xと反応させ、金属酸化物xを還元除去する。水素原子含有ガスgの分解反応で生じた化学種が、400°C以上の温度の金属酸化物xと反応することにより、Si、Mnを含有する高強度鋼板の表面に生成するような難還元性の金属酸化物であっても、これを適切かつ効率的に還元除去することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
鋼材製造過程において、金属酸化物(x)をホットワイヤー法を用いて還元除去する方法であり、 水素原子含有ガス(g)を加熱された触媒体(A)に接触させ、この接触による水素原子含有ガス(g)の分解反応により生じた化学種を、400°C以上の温度の金属酸化物(x)と反応させ、該金属酸化物(x)を還元除去することを特徴とする金属酸化物の還元除去方法。
IPC (3件)：
C21D 9/56 ,  C23C 2/02 ,  C23C 2/06
FI (3件)：
C21D9/56 101D ,  C23C2/02 ,  C23C2/06
Fターム (36件)：
4K027AA02 ,  4K027AA05 ,  4K027AA23 ,  4K027AB01 ,  4K027AB07 ,  4K027AB42 ,  4K027AC12 ,  4K027AC18 ,  4K027AD01 ,  4K027AE22 ,  4K043AA01 ,  4K043AB01 ,  4K043AB02 ,  4K043AB03 ,  4K043AB04 ,  4K043AB07 ,  4K043AB10 ,  4K043AB13 ,  4K043AB15 ,  4K043AB16 ,  4K043AB18 ,  4K043AB21 ,  4K043AB22 ,  4K043AB25 ,  4K043AB26 ,  4K043AB27 ,  4K043AB28 ,  4K043AB29 ,  4K043AB30 ,  4K043AB33 ,  4K043FA06 ,  4K043FA07 ,  4K043FA09 ,  4K043FA12 ,  4K043GA03 ,  4K043HA04
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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