特許

J-GLOBAL ID：202103005298935654

先進的なパターニングプロセスにおけるスペーサ堆積および選択的除去のための装置および方法

発明者： チョウ, チエ ,  イン, チェンツァウ ,  ロイ, シャムブ エヌ. ,  ネマニ, シュリーニヴァース ディー. ,  リウ, チンチン ,  イー, エリー ワイ.
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 園田・小林特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-562685
特許番号：特許第6810059号
出願日： 2016年05月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 マルチパターニングプロセス中にスペーサ層を堆積しパターニングする方法であって、 基板上に配置されたパターニングされた構造であって、その間に画定された開口部の第1の群を有するパターニングされた構造の外面上にスペーサ層を共形的に形成することと、 前記基板上に形成された前記スペーサ層の第1の部分を、前記スペーサ層の第2の部分を処理することなく、選択的に処理することと、 前記スペーサ層の処理された前記第1の部分を選択的に除去することと を含む方法。

IPC (1件)：

H01L 21/3065 ( 200 6.01)

FI (2件)：

H01L 21/302 105 A ,  H01L 21/302 101 C

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 適応型の自己整合型ダブルパターニングのためのシーケンス内計測ベースのプロセス調整
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2011-517654   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• スペーサおよびスペーサ保護用途のための共形アモルファスカーボン
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2014-553383   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 先進のパターニングのためのソフトランディング・ナノラミネート
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-226067   出願人：ノベラス・システムズ・インコーポレーテッド

審査官引用 (3件)

• 適応型の自己整合型ダブルパターニングのためのシーケンス内計測ベースのプロセス調整
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2011-517654   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• スペーサおよびスペーサ保護用途のための共形アモルファスカーボン
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2014-553383   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 先進のパターニングのためのソフトランディング・ナノラミネート
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-226067   出願人：ノベラス・システムズ・インコーポレーテッド