特許
J-GLOBAL ID：202103005585800670

プラズマ処理装置及びシャワーヘッド

発明者：
佐々木 和男

佐々木 和男 について

, 
藤井 祐希

藤井 祐希 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 別役 重尚 ,  村松 聡
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-230545
公開番号（公開出願番号）：特開2018-088336
特許番号：特許第6851188号
出願日： 2016年11月28日
公開日（公表日）： 2018年06月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 平面視矩形の基板を収容する処理室と、誘導結合プラズマを生成するための高周波アンテナと、前記処理室の金属窓として機能する平面視矩形のシャワーヘッドとを備え、前記シャワーヘッドは、前記シャワーヘッドの中央から外周へ向かう方向を径方向とし、且つ前記シャワーヘッドの外周を辿る方向を周方向としたとき、前記径方向及び前記周方向に関し、絶縁部材を介して複数の分割シャワーヘッドに分割され、各前記分割シャワーヘッドは個別に処理ガスを前記処理室の内部へ導入可能に構成されるプラズマ処理装置において、 前記複数の分割シャワーヘッドは複数の分割シャワーヘッド群に仕分けされ、 前記複数の分割シャワーヘッド群は、前記シャワーヘッドの角部に位置する前記分割シャワーヘッドを含む第1の分割シャワーヘッド群と、前記シャワーヘッドの外周に位置して前記第1の分割シャワーヘッド群の各前記分割シャワーヘッドに挟まれる前記分割シャワーヘッドを含む第2の分割シャワーヘッド群と、前記シャワーヘッドの中央に存在する前記分割シャワーヘッドを含む第3の分割シャワーヘッド群と、前記第3の分割シャワーヘッド群及び前記第1の分割シャワーヘッド群又は前記第2の分割シャワーヘッド群に挟まれる前記分割シャワーヘッドを含む第4の分割シャワーヘッド群とを含み、 前記複数の分割シャワーヘッド群の各々へ供給される前記処理ガスの流量は個別に制御されることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  C23C 16/507 ( 200 6.01) ,  C23C 16/455 ( 200 6.01)
FI (4件)：
H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 101 C ,  C23C 16/507 ,  C23C 16/455
引用特許：
審査官引用 (6件)
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