特許
J-GLOBAL ID：202103005625974928

流量制御機器、流量制御機器の流量校正方法、流量測定機器および流量測定機器を用いた流量測定方法

発明者：
澤田 洋平

澤田 洋平 について

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永瀬 正明

永瀬 正明 について

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西野 功二

西野 功二 について

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池田 信一

池田 信一 について


出願人/特許権者：
株式会社フジキン

株式会社フジキン について


代理人 (2件)： 谷田 龍一 ,  杉本 丈夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-132948
公開番号（公開出願番号）：特開2018-004499
特許番号：特許第6795832号
出願日： 2016年07月05日
公開日（公表日）： 2018年01月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 流量制御機器をガス供給システムに組み込む前において予め行う校正方法であり、流量基準器により計測された流量との比較のもとに流量校正を行う流量制御機器の校正方法であって、複数の流量設定に対して所定許容誤差範囲が設定され、前記複数の流量設定のうちの少なくとも1つの特定流量設定の許容誤差範囲が、前記所定許容誤差範囲よりも小さく設定されており、前記少なくとも1つの特定流量設定では、他の流量設定に比べて、前記流量基準器の流量との誤差がより低減されるまで校正動作が行われ、 前記所定許容誤差範囲は、流量が増加するほど許容誤差が同じかまたは大きくなるような連続的な境界線で規定される目標範囲として設定され、一方で、特定流量設定においては、前記所定許容誤差範囲で規定される許容誤差よりも小さく設定された許容誤差であって、前後の流量設定に比べて離散的に小さく設定された許容誤差に目標範囲が設定されている、流量制御機器の流量校正方法。
IPC (2件)：
G01F 25/00 ( 200 6.01) ,  G01F 1/00 ( 200 6.01)
FI (2件)：
G01F 25/00 C ,  G01F 1/00 X
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献：
出願人引用 (2件)
  • 高精度精密膜流量計 SF-1U・2U, 2010
  • 堀場エステック,マスフローコントローラSEC-N105シリーズ
審査官引用 (2件)
  • 高精度精密膜流量計 SF-1U・2U, 2010
  • 堀場エステック,マスフローコントローラSEC-N105シリーズ

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