光学積層体及び偏光ビームスプリッタ

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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：赤澤太朗 , 野村和歌子 , 佃誠玄 , 浅村敬一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-534578
公開番号（公開出願番号）：特表2021-507303
出願日： 2018年12月13日
公開日（公表日）： 2021年02月22日
要約：

第2の反射偏光子に接着された第1の反射偏光子を含む光学積層体が記載される。垂直入射光でありかつ同じ所定の波長範囲内の各波長に対して、各反射偏光子が、反射偏光子の通過軸に沿って偏光された光の少なくとも80%を透過し、反射偏光子の直交する遮断軸に沿って偏光された光の少なくとも90%を反射する。各反射偏光子は、所定の波長範囲において主に光干渉によって光を反射及び透過する複数のポリマー干渉層を含む。複数のポリマー干渉層のうちの互いに最も遠い2つのポリマー干渉層間の分離が、それぞれ第1及び第2の反射偏光子についてd1及びd2であり、d1が、d2よりも少なくとも20%小さい。光学積層体を含む偏光ビームスプリッタ及び偏光ビームスプリッタを含む光学システムが記載される。

請求項（抜粋）：

第2の反射偏光子に接着された第1の反射偏光子を備える光学積層体であって、垂直入射光でありかつ少なくとも400nm〜600nmにわたる同じ所定の波長範囲内の各波長に対して、各反射偏光子が、前記反射偏光子の通過軸に沿って偏光された光の少なくとも80%を透過し、前記反射偏光子の直交する遮断軸に沿って偏光された光の少なくとも90%を反射し、前記第1の反射偏光子の前記通過軸と前記第2の反射偏光子の前記通過軸との間の角度が、約10度未満であり、各反射偏光子が、前記所定の波長範囲において主に光干渉によって光を反射及び透過する複数のポリマー干渉層を含み、前記複数のポリマー干渉層のうちの互いに最も遠い2つのポリマー干渉層間の分離が、前記第1及び第2の反射偏光子それぞれについてd1及びd2であり、d1が、d2よりも少なくとも20%小さい、光学積層体。

IPC (2件)：

G02B 5/30 , G02B 27/10

FI (2件)：

G02B5/30 , G02B27/10

Fターム (10件)：

2H149AA02 , 2H149BA04 , 2H149BA22 , 2H149BA24 , 2H149EA10 , 2H149FC10 , 2H149FD09 , 2H149FD10 , 2H149FD47 , 2H149FD48

引用特許：

出願人引用 (7件)

偏光ビームスプリッターおよび偏光ビームスプリッターを用いる投影システム
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-532332 出願人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
偏光ビームスプリッタ
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-280188 出願人：ミノルタ株式会社
広範な可視光/赤外線カバレッジのための重複調波を備えた多層積層体
公報種別：公表公報出願番号：特願2016-509011 出願人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー

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引用文献：

出願人引用 (1件)

Recent advances in multilayer polymeric interference reflector products

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