特許

J-GLOBAL ID：202103007193890062

化学機械研磨後の洗浄組成物

発明者： デシュライン,クリスティアン ,  ジーベルト,マクス ,  ラウター,ミヒャエル ,  プルジビルスキ,ピョートル ,  プレルス,ユリアン ,  クリップ,アンドレアス ,  グェヴェンク,ハチ オスマン ,  ロイニッセン,レオナルドゥス ,  バオマン,レルフ-ペーター ,  ウェイ,トー ユイ
出願人/特許権者： ビーエイエスエフ・ソシエタス・エウロパエア
代理人 (1件)： 江藤 聡明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-533238
特許番号：特許第6886469号
出願日： 2016年12月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】化学機械研磨後(CMP後)の洗浄組成物であって、 (A) ポリアクリルアミド、ポリヒドロキシエチル(メタ)アクリレート(PHE(M)A)、ポリビニルピロリドン(PVP)、ポリビニルアルコール(PVA)、式(I) (式中、R1が、水素、メチル、エチル、n-プロピル、イソ-プロピル、n-ブチル、イソ-ブチル、またはsec-ブチルであり、R2が、水素またはメチルであり、nが、整数である)のポリマー、およびこれらの混合物からなる群から選択される、1種または複数種の非イオン性ポリマー、 (B) 質量平均分子量(Mw)が10,000g/molまでのポリ(アクリル酸)(PAA)またはアクリル酸-マレイン酸コポリマー、ならびに (C) 水 を含むまたはそれらからなり、 pHが7.0から10.5の範囲内であり、 1種または複数種の非イオン性ポリマーの総量が、組成物の総質量に対して0.1wt%から7.5wt%の範囲内であり、及び 化学機械研磨後(CMP後)の洗浄組成物によって処理される基板は、コバルト又はコバルト合金を含むか、又はコバルト又はコバルト合金から成る、ことを特徴とする化学機械研磨後(CMP後)の洗浄組成物。

IPC (3件)：

C11D 7/22 ( 200 6.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  C11D 3/37 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C11D 7/22 ,  H01L 21/304 622 Q ,  C11D 3/37

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特定の硫黄含有化合物および糖アルコールまたはポリカルボン酸を含む、ポスト化学機械研磨(ポストCMP)洗浄組成物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2014-555353   出願人：ビーエーエスエフソシエタス・ヨーロピア
• 二酸化ケイ素および窒化ケイ素のケミカルメカニカルポリッシングのための組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-058028   出願人：ロームアンドハースエレクトロニックマテリアルズシーエムピーホウルディングスインコーポレイテッド
• 金属用研磨液及び研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-111660   出願人：日立化成工業株式会社