特許
J-GLOBAL ID：202103007411422319
反射型フォトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-096751
公開番号（公開出願番号）：特開2017-203934
特許番号：特許第6852281号
出願日： 2016年05月13日
公開日（公表日）： 2017年11月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板と、
前記基板上に形成され、露光光を反射する多層反射膜と、
前記多層反射膜上に形成され、前記露光光を吸収する吸収体膜と、を備え、
波長5nm以上15nm以下の露光光を使用するリソグラフィに使用される反射型フォトマスクであって、
前記吸収体膜には、回路パターンが形成され、
前記回路パターンが形成されている領域の外側には、前記多層反射膜、及び前記吸収体膜が除去されて前記基板が露出する遮光領域が形成され、
前記遮光領域で前記基板が露出する部分に、光源から放射される100nm以上800nm以下のアウトオブバンド光の反射を抑制する凹凸構造が形成され、
前記凹凸構造の表面には、それよりも構造の小さい微細凹凸形状が形成され、
前記凹凸構造の凹部、及び凸部の少なくとも一方には、段差が二段以上の前記微細凹凸形状が形成され、
前記凹凸構造は、断面形状が基端側に向かうほど幅が広くなる傾斜凸部、又は断面形状が基端側に向かうほど幅が狭くなる傾斜凹部を備え、前記傾斜凸部の傾斜面、又は前記傾斜凹部の傾斜面に、鋸歯形状が形成されることを特徴とし、
前記鋸歯形状は、前記凹凸構造における少なくとも四周期ごとの前記傾斜凸部、又は傾斜凹部に一つ以上形成されることを特徴とする反射型フォトマスク。
IPC (2件)：
G03F 1/24 ( 201 2.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
G03F 1/24
, G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
