特許
J-GLOBAL ID：202103008378158321
レーザーアニーリング装置及びそのためのレーザーアニーリング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
家入 健
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-534060
特許番号：特許第6831383号
出願日： 2016年12月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ウエハー・テーブル上のウエハーのレーザーアニーリングのためのレーザーアニーリング装置であって、
調整可能なパワーでレーザービームを出力する少なくとも2つのレーザーを備えるレーザー光源システム;
前記レーザー光源システムと連結されたレーザー調節システムであって、レーザーと1対1で対応する少なくとも2つのレーザー調節装置を含み、レーザービームのパワー及びレーザービームによってウエハーの表面に形成される光スポットの位置をモニターするように構成されるとともに、レーザービームの入射角及び光スポットの形状を調節するように構成される、前記レーザー調節システム;
ウエハーの表面の光スポットが形成される箇所の温度をリアルタイムに計測するように構成された温度監視システム;及び、
前記レーザー光源システム、前記レーザー調節システム、前記温度監視システム、及び、前記ウエハー・テーブルのそれぞれに連結された中央コントロールシステムであって、前記レーザー光源システム、前記レーザー調節システム、温度監視システム、及び、前記ウエハー・テーブルからのデータを受け取るとともに、前記レーザー光源システム、前記レーザー調節システム、及び、前記ウエハー・テーブルを制御するように構成される中央コントロールシステム、を備え、
前記中央コントロールシステムは、ウエハーの表面の光スポットが形成される位置に及び当該位置における反射率に基づいて、プロセス・パラメータの最適なセットを決定するように構成され、
前記レーザー光源システムと前記レーザー調節システムは、前記プロセス・パラメータの最適なセットに基づいて、前記光スポットが形成されるウエハーの位置を露光するように構成され、前記温度監視システムは、前記光スポットが形成されたウエハーの位置の温度を測定し、測定した温度を中央コントロールシステムに送信するように構成され、
前記中央コントロールシステムは、前記ウエハーの表面の光スポットが形成される位置の温度に基づいて、当該温度が所定の温度範囲内であるかどうか決定し、当該温度が所定の温度範囲内でない場合、当該位置の露光温度を記録し、前記ウエハーの同じ反射率を有する次の位置が露光される際、前記所定の温度範囲内の露光温度で前記ウエハーが露光されるように、露光温度が前記所定の温度範囲内となるように、前記レーザー光源システム及び前記レーザー調節システムのパラメータを調節し、当該温度が所定の温度範囲内である場合、露光されるべき次の位置に前記光スポットが位置するように、前記ウエハー・テーブルにウエハーを移動させるように構成されている、レーザーアニーリング装置。
IPC (2件)：
H01L 21/268 ( 200 6.01)
, H01L 21/20 ( 200 6.01)
H01L 21/268 T
, H01L 21/268 J
, H01L 21/20
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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