特許
J-GLOBAL ID：200903031945700104
レーザ照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-154469
公開番号（公開出願番号）：特開2003-347236
出願日： 2002年05月28日
公開日（公表日）： 2003年12月05日
要約：
【要約】【課題】 ステージ上に照射される複数のレーザ光の強度をそれぞれ同一とし、且つ照射領域に照射される各レーザ光の強度を一定とする。【解決手段】 第1〜第5のアッテネータ16〜20を備え、第1〜第5の固体レーザ11〜15から射出される各レーザ光L1〜L5の強度を制御する。また、コンデンサレンズ42は、各レーザ光L1〜L5を、被照射物上で一つの照射領域を形成し且つ当該照射領域が2次光源の瞳よりも狭くなるように合成し、被照射物に対して射出する。
請求項（抜粋）：
ステージの上に載置された被照射物の表面に対してレーザ光を照射するレーザ照射装置において、互いに干渉性がないレーザ光を射出する複数のレーザ光源と、上記複数のレーザ光源から射出された各レーザ光の強度を独立に制御して所定の強度とする光強度制御手段と、上記光強度制御手段により制御された各レーザ光を導光し、それぞれ所定の位置に2次光源を生成する2次光源生成手段と、上記各2次光源からの各レーザ光を導光し、当該各レーザ光の上記被照射物表面における各照射領域を重畳し、上記被照射物の表面に1つの照射領域を生成する照射光学手段とを備えることを特徴とするレーザ照射装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/268 J
, H01L 21/20
5F052AA02
, 5F052BA01
, 5F052BA04
, 5F052BA07
, 5F052BA11
, 5F052BA18
, 5F052BB02
, 5F052BB05
, 5F052BB07
, 5F052DA02
