特許

J-GLOBAL ID：202103014007390221

フッ化物に基づく洗浄組成物

発明者： 高知 琢磨 ,  菊池 一雄 ,  大竹 敦
出願人/特許権者： ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェン
代理人 (2件)： 松谷 道子 ,  森住 憲一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-524433
公開番号（公開出願番号）：特表2021-501818
出願日： 2018年11月02日
公開日（公表日）： 2021年01月21日
要約：

本発明は、a)組成物の総重量の1〜5重量%のフッ化アンモニウム;b)組成物の総重量の30〜70重量%の水溶性有機溶媒;c)組成物の総重量の1.5〜20重量%の有機アミン;およびd)組成物の総重量の31〜60重量%の脱イオン水を含んでなる洗浄組成物に関する。本発明の洗浄組成物は、穏やかな洗浄組成物であり、安定したpHを有しつつも、良好な洗浄効果をもたらす。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

a)組成物の総重量の1〜5重量%のフッ化アンモニウム; b)組成物の総重量の30〜70重量%の水溶性有機溶媒; c)組成物の総重量の1.5〜20重量%の有機アミン;および d)組成物の総重量の31〜60重量%の脱イオン水 を含んでなる洗浄組成物。

IPC (6件)：

C11D 7/10 ,  C11D 7/50 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/34 ,  C11D 7/26 ,  H01L 21/304

FI (7件)：

C11D7/10 ,  C11D7/50 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/26 ,  H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 647A

Fターム (39件)：

4H003DA09 ,  4H003DB01 ,  4H003DC02 ,  4H003EA05 ,  4H003EB04 ,  4H003EB06 ,  4H003EB07 ,  4H003EB13 ,  4H003EB14 ,  4H003EB17 ,  4H003EB20 ,  4H003ED02 ,  4H003ED28 ,  4H003ED29 ,  4H003ED31 ,  4H003ED32 ,  4H003FA21 ,  4H003FA28 ,  5F157AA63 ,  5F157AA64 ,  5F157AA93 ,  5F157AA94 ,  5F157BC07 ,  5F157BC13 ,  5F157BE12 ,  5F157BE34 ,  5F157BF12 ,  5F157BF23 ,  5F157BF38 ,  5F157BF49 ,  5F157BF52 ,  5F157BF55 ,  5F157BF58 ,  5F157BF59 ,  5F157BF62 ,  5F157BF72 ,  5F157BF73 ,  5F157DB03 ,  5F157DB57

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 基板洗浄液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-014395   出願人：株式会社トクヤマ, AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社
• ストリッパー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-204579   出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
• クリーニング用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-219489   出願人：エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッド
• はく離及び洗浄用の組成物並びにそれらの使用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-190183   出願人：エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッド

審査官引用 (4件)

• 基板洗浄液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-014395   出願人：株式会社トクヤマ, AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社
• ストリッパー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-204579   出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
• クリーニング用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-219489   出願人：エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッド
• はく離及び洗浄用の組成物並びにそれらの使用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-190183   出願人：エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッド