特許
J-GLOBAL ID:202103014759792884

金属膜の製造方法、金属膜形成用組成物及び金属膜積層体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人太陽国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2020-180874
公開番号(公開出願番号):特開2021-070873
出願日: 2020年10月28日
公開日(公表日): 2021年05月06日
要約:
【課題】100°C以上の加熱処理を必要とせず、任意の基材上に、緻密な金属膜を簡易に形成し得る金属膜の製造方法、金属膜形成用組成物及び金属膜積層体を提供する。【解決手段】金属錯体及び金属塩からなる群より選ばれる少なくとも1種と、アンモニア及びアミンから選ばれる少なくとも1種と、溶媒と、を含む混合液中で、前記金属錯体及び前記金属塩化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種と前記アンモニア及びアミンから選ばれる少なくとも1種とを反応させて金属前駆体液を得る工程、得られた金属前駆体液と、有機還元剤と、を含む金属膜形成用組成物を調製する工程、及び、得られた金属膜形成用組成物を基材に付与する工程、を含む金属膜の製造方法、並びにその応用。【選択図】なし
請求項(抜粋):
金属錯体及び金属塩からなる群より選ばれる少なくとも1種と、アンモニア及びアミンから選ばれる少なくとも1種と、溶媒と、を含む混合液中で、前記金属錯体及び前記金属塩からなる群より選ばれる少なくとも1種と前記アンモニア及びアミンから選ばれる少なくとも1種とを反応させて金属前駆体液を得る工程、 得られた金属前駆体液と、有機還元剤と、を含む金属膜形成用組成物を調製する工程、及び、 得られた金属膜形成用組成物を基材に付与する工程、を含む金属膜の製造方法。
IPC (1件):
C23C 18/40
FI (1件):
C23C18/40
Fターム (8件):
4K022AA03 ,  4K022BA08 ,  4K022DA01 ,  4K022DB07 ,  4K022DB26 ,  4K022DB28 ,  4K022DB29 ,  4K022EA02
引用特許:
審査官引用 (6件)
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