コンビナトリアルスパッタ方法及び装置

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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-251841
公開番号（公開出願番号）：特開2018-104761
特許番号：特許第6868889号
出願日： 2016年12月26日
公開日（公表日）： 2018年07月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】複数のスパッタガンから射出されたそれぞれのスパッタビームを、前記複数のスパッタガンのそれぞれに対応して設けられるとともにそれぞれ開口を有する複数のスパッタビームマスクを介して絞られたスパッタビームとしてスパッタ対象の基板に照射することにより、前記開口により規制された前記絞られたスパッタビームによる前記基板上への照射の強度が位置によって異なるが前記スパッタ対象への前記照射が継続している間は前記位置による照度の強度が変化しない不均一強度分布を形成させ、前記複数のスパッタガンのうちの少なくとも2つのスパッタガンは前記スパッタビームを同時に射出することで、前記不均一強度分布によりコンビナトリアルスパッタを行うコンビナトリアルスパッタ方法。

IPC (2件)：