特許
J-GLOBAL ID：202103019006186100
インプリント装置及びインプリント方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
永井 浩之
, 中村 行孝
, 佐藤 泰和
, 朝倉 悟
, 堀田 幸裕
, 金川 良樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-164717
公開番号（公開出願番号）：特開2017-055110
特許番号：特許第6807045号
出願日： 2016年08月25日
公開日（公表日）： 2017年03月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基材を保持する基材保持部を有するステージユニットと、
前記基材上に配置される被成形材料に接触されるモールドを保持するモールド保持部と、
平面視において、転写位置とは重ならないよう、配置され、前記基材と前記モールドとが鉛直方向に向き合う状態で前記基材と前記モールドとの間に間隙が形成された際に、当該間隙に、水平方向に沿った軟X線を照射可能なモールド除電用の軟X線型イオナイザと、
前記軟X線型イオナイザの軟X線を検出するための軟X線センサと、
前記基材と前記モールドとの間に形成される間隙、前記軟X線型イオナイザが軟X線を水平方向に沿って照射する照射位置、及び前記軟X線センサの検出面の各々の鉛直方向の位置が、水平面上に並ぶように、前記ステージユニット、前記モールド保持部、前記軟X線型イオナイザ及び前記軟X線センサの鉛直方向の相対位置を自動で調整する位置調整機構と、を備える、ことを特徴とするインプリント装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, B29C 59/02 ( 200 6.01)
, H05F 3/06 ( 200 6.01)
H01L 21/30 502 D
, B29C 59/02 Z
, H05F 3/06
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示
前のページに戻る
