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J-GLOBAL ID：202202224344086080   整理番号：22A1160459

全湿式化学処理を用いたステップエッジに沿った選択エッチングによる平坦化Si(111)表面上の隣接テラスの分離【JST・京大機械翻訳】

Separation of Neighboring Terraces on a Flattened Si(111) Surface by Selective Etching along Step Edges Using Total Wet Chemical Processing

著者 (6件)： Ma Zhida (Department of Precision Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University, Osaka, Japan) ,  Masumoto Seiya (Department of Precision Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University, Osaka, Japan) ,  Kawai Kentaro (Department of Precision Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University, Osaka, Japan) ,  Yamamura Kazuya (Department of Precision Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University, Osaka, Japan) ,  Yamamura Kazuya (Research Center for Precision Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University, Osaka, Japan) ,  Arima Kenta (Department of Precision Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University, Osaka, Japan)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 38  号： 12  ページ： 3748-3754  発行年： 2022年 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si(111)上の隣接テラスを分離するために,全湿式化学処理を用いたボトムアップ技術を提案した。最初に,Agカチオンは,二原子ステップと平坦なテラスから成る近接Si(111)表面のステップエッジで還元され,ナノドットとナノワイヤから成る自己集合Ag列をもたらした。この試料をHFとH_2O_2の混合溶液に浸漬することにより,ナノメートルスケールの深さと幅を有するほぼ連続的なナノトレンチをエッジに沿って作製した。ナノトレンチの形成をもたらす溶液/Ag/Si系の電位電気化学プロセスを考察した。さらに,原子厚みSiリボンを作成するために,著者らのアプローチをどのように計画するかを示した。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 原子 ,  電位 ,  銀 ,  *ケイ素 ,  化学プロセス ,  混合液体 ,  カチオン ,  端部 ,  ナノ構造 ,  自己集合 ,  ナノワイヤ
準シソーラス用語： *テラス ,  ナノドット ,  ボトムアップ ,  *化学処理 ,  *選択エッチング , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  固-液界面  (CB12050B) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (6件)： 化学処理 ,  エッジ ,  選択エッチング ,  平坦化 ,  Si ,  テラス