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J-GLOBAL ID：202202273244253599   整理番号：22A1043670

その場極端紫外リソグラフィースキャナ洗浄のための小型プラズマ源【JST・京大機械翻訳】

Miniature plasma source for in situ extreme ultraviolet lithographic scanner cleaning

著者 (6件)： de Kerkhof Mark van (Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, PO Box 513, 5600MB Eindhoven, The Netherlands) ,  Osorio Edgar (ASML Netherlands B.V., P.O. Box 324, 5500AH Veldhoven, The Netherlands) ,  Krivtsun Vladimir (Institute of Spectroscopy of the Russian Academy of Sciences, Troitsk, Moscow 108840, Russia) ,  Spiridonov Maxim (Space Research Institute, Russian Academy of Sciences, Moscow 117997, Russia) ,  Astakhov Dmitry (Institute of Spectroscopy of the Russian Academy of Sciences, Troitsk, Moscow 108840, Russia) ,  Medvedev Viacheslav (Institute of Spectroscopy of the Russian Academy of Sciences, Troitsk, Moscow 108840, Russia)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 40  号： 2  ページ： 022601-022601-7  発行年： 2022年 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 極端紫外線(EUV)リソグラフィーは,サブ10nmリソグラフィーの大量生産のための選択の技術である。課題の一つは,スキャナツールを開けずに,センサ,ファジカルおよび干渉計ミラーのような機能表面のin situ洗浄を可能にすることである。熱的に生成した水素ラジカルをこの目的に成功裏に使用した。これらの源は洗浄速度が制限され,表面に対する比較的高い熱負荷が洗浄される。ここでは,水素ラジカルと水素イオンを同時に生成する代替プラズマベース技術を示した。これは,全熱負荷を同時に低減しながら,著しく改善された洗浄速度をもたらした。付加的な利点として,このプラズマ源は,EUVリソグラフィースキャナにおける様々な位置への容易な統合を可能にするための最小で柔軟な建築体積を有する。Copyright 2022 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 干渉計 ,  ラジカル ,  陽子 ,  大量生産 ,  洗浄 ,  水素 ,  *プラズマ源 ,  *走査装置 ,  熱負荷 ,  *リソグラフィー ,  センサ ,  フォトリソグラフィー ,  *極端紫外線
準シソーラス用語： EUVリソグラフィー ,  水素ラジカル , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 極端紫外 ,  リソグラフィー ,  スキャナ ,  洗浄 ,  プラズマ源