特許
J-GLOBAL ID：202203000402417135

イオン液体を含むレジスト下層膜形成組成物

発明者：
木村 哲也

木村 哲也 について

, 
西巻 裕和

西巻 裕和 について

, 
緒方 裕斗

緒方 裕斗 について


出願人/特許権者：
日産化学株式会社

日産化学株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人はなぶさ特許商標事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-231690
公開番号（公開出願番号）：特開2022-025161
出願日： 2018年12月11日
公開日（公表日）： 2022年02月10日
要約：
【課題】高温時における低粘度性を付与させることで、熱リフロー性を高め、パターンへの充填性を向上させることができるレジスト下層膜形成組成物の提供。 【解決手段】少なくとも一種のイオン液体、ポリマー、架橋剤、架橋反応を促進させる化合物及び有機溶媒を含む、レジスト下層膜形成組成物。上記イオン液体が架橋部位を有する。上記イオン液体がポリマーの質量に対し1.0質量%乃至90質量%の量含まれる。上記イオン液体が下記式(6)で表されるカチオン構造を有する。 TIFF 2022025161000045.tif 38 136 【選択図】なし
請求項（抜粋）：
少なくとも一種のイオン液体、ポリマー、架橋剤、架橋反応を促進させる化合物及び有機溶媒を含む、レジスト下層膜形成組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/11 ,  G03F 7/26 ,  C08G 10/02 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/11 503 ,  G03F7/26 511 ,  C08G10/02 ,  H01L21/30 578
Fターム (20件)：
2H196AA25 ,  2H196CA05 ,  2H225AE05N ,  2H225AF18N ,  2H225AF42N ,  2H225AM79N ,  2H225AN38N ,  2H225AN39N ,  2H225AN50N ,  2H225AN75N ,  2H225AN82N ,  2H225BA01N ,  2H225BA24N ,  2H225BA32N ,  2H225CA12 ,  4J033DA03 ,  4J033DA13 ,  4J033DA21 ,  5F146NA19 ,  5F146PA19
引用特許：
出願人引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM