蒸着方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-199475
公開番号（公開出願番号）：特開2020-066767
特許番号：特許第7077201号
出願日： 2018年10月23日
公開日（公表日）： 2020年04月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】マスクを用いて基板に蒸着材料を蒸着する蒸着方法であって、前記マスクが設けられるマスクフレームであって、互いに対向する第1辺および第2辺を含むマスクフレームを、重力方向において前記第1辺が前記第2辺よりも高い位置に存在するように前記基板に対向して配置し、前記マスクフレームを配置した後、第1移動部材と、前記マスクフレームと接触する位置に設けられた第2移動部材と、前記第1移動部材が第1変位量で移動した場合に、前記第1変位量よりも小さい第2変位量で前記第2移動部材を移動させる縮小機構とを含む補正機構を用いて、前記マスクフレームに生じる重力方向の撓みを補正する蒸着方法。

IPC (4件)：

C23C 14/50 ( 200 6.01) , C23C 14/04 ( 200 6.01) , H05B 33/10 ( 200 6.01) , H01L 51/50 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C23C 14/50 F , C23C 14/04 A , H05B 33/10 , H05B 33/14 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

処理チャンバにおいて基板をマスキングするためのマスク構成、基板上に層を堆積させるための装置、及び、処理チャンバにおいて基板をマスキングするためのマスク構成の位置を合わせる方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2017-531212 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
蒸着マスク
公報種別：公開公報出願番号：特願2017-022875 出願人：株式会社ジャパンディスプレイ
有機ELデバイス製造装置及び成膜装置並びに有機ELデバイス製造方法及び成膜方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-198886 出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ

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