特許
J-GLOBAL ID：202203002304373386
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 松本 将尚
, 宮本 龍
, 飯田 雅人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-123728
公開番号（公開出願番号）：特開2020-003677
特許番号：特許第7054654号
出願日： 2018年06月28日
公開日（公表日）： 2020年01月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、 酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、 下記一般式(d0)で表されるアミン化合物(D0)及び下記一般式(e0)で表されるカルボン酸化合物(E0)、又は前記アミン化合物(D0)と前記カルボン酸化合物(E0)との塩と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有し、前記酸発生剤成分(B)は、アニオン部にヒドロキシ基を有するオニウム塩を含む、レジスト組成物。[式(d0)中、Rd01、Rd02及びRd03はそれぞれ独立に、置換基を有してもよい脂肪族炭化水素基を表す。但し、Rd01、Rd02及びRd03のうちの2つ以上が相互に結合して環構造を形成していてもよい。式(e0)中、Re01は、フッ素原子を有する脂肪族炭化水素基を表す。Ye01は、2価の連結基又は単結合を表す。]
IPC (5件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/32 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
G03F 7/004 501
, G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/32
, G03F 7/038 601
, G03F 7/20 501
, G03F 7/20 521
