特許
J-GLOBAL ID:202203011836432940

処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人快友国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2021-031008
公開番号(公開出願番号):特開2022-007990
出願日: 2021年02月26日
公開日(公表日): 2022年01月13日
要約:
【課題】処理液を処理する処理室内に混入物が滞留することを抑制する。 【解決手段】処理装置は、処理液が流れる処理室を有する。処理装置は、処理室の一端に設けられ、処理室と外部とを連通する第1連通孔と、処理室の他端に設けられ、処理室と外部とを連通する第2連通孔と、を備える。処理室は、当該処理室の中心を通って一端から他端に向かって第1方向に伸びる処理室軸線を有している。第1連通孔と第2連通孔の少なくとも一方において、その軸線を延長した連通孔軸線は、第1方向に対して傾斜又は直交し、かつ、処理室軸線とは交差しない。 【選択図】図3
請求項(抜粋):
処理液が流れる処理室を有する処理装置において、 前記処理室の一端に設けられ、前記処理室と外部とを連通する第1連通孔と、 前記処理室の他端に設けられ、前記処理室と外部とを連通する第2連通孔と、を備えており、 前記処理室は、当該処理室の中心を通って前記一端から前記他端に向かって第1方向に伸びる処理室軸線を有しており、 前記第1連通孔と前記第2連通孔の少なくとも一方において、その軸線を延長した連通孔軸線は、前記第1方向に対して傾斜又は直交し、かつ、前記処理室軸線とは交差しない、処理装置。
IPC (1件):
C02F 1/32
FI (1件):
C02F1/32
Fターム (4件):
4D037AA09 ,  4D037AA11 ,  4D037AB03 ,  4D037BA18
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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