特許
J-GLOBAL ID：202203012048073499
蒸着マスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
中村 行孝
, 朝倉 悟
, 堀田 幸裕
, 柳本 陽征
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-092352
公開番号（公開出願番号）：特開2020-204098
特許番号：特許第7015483号
出願日： 2018年05月11日
公開日（公表日）： 2020年12月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 金属層を含む蒸着マスクの製造方法であって、 基材上に、隙間を有するレジストパターンを形成する、レジストパターン形成工程と、 前記基材側に位置する第1面と、前記第1面と反対側に位置する第2面とを有する前記金属層を、めっきにより前記隙間に析出させる、めっき処理工程と、 前記金属層を前記基材から分離する、分離工程と、を有し、前記めっき処理工程において、めっき液の組成、めっき液の金属イオン濃度、めっき液に含まれる光沢剤の種類、めっき液に含まれる光沢剤の濃度、めっき処理時間又はめっき処理温度を調整することにより、前記基材から分離された前記金属層の前記第2面の算術平均高さ(Sa)を0.11μm以上にする、蒸着マスクの製造方法。
IPC (3件)：
C23C 14/04 ( 200 6.01)
, H05B 33/10 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
C23C 14/04 A
, H05B 33/10
, H05B 33/14 A
