特許
J-GLOBAL ID：202203012859444942
化学機械研磨後製剤および使用方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
園田・小林特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-535748
公開番号（公開出願番号）：特開2019-218548
特許番号：特許第7005562号
出願日： 2016年01月05日
公開日（公表日）： 2019年12月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 マイクロエレクトロニクスデバイスから残留物および/または汚染物を洗浄除去するための組成物であって、 少なくとも1種の有機アミン、水、少なくとも1種の第四級塩基、少なくとも1種の錯化剤、少なくとも1種の還元剤、任意選択で少なくとも1種の追加のエッチング剤、および任意選択で少なくとも1種の洗浄除去添加剤を含む組成物であって、前記組成物が、0.1重量%未満の範囲のアルカリ水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、および水酸化テトラメチルアンモニウムを含み、 前記少なくとも1種の有機アミンが、アミノエチルエタノールアミン、N-メチルアミノエタノール、アミノエトキシエタノール、ジメチルアミノエトキシエタノール、ジエタノールアミン、N-メチルジエタノールアミン、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン、1-アミノ-2-プロパノール、3-アミノ-1-プロパノール、ジイソプロピルアミン、イソプロピルアミン、2-アミノ-1-ブタノール、イソブタノールアミン、他のC1~C8アルカノールアミン、トリエチレンジアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、1-メトキシ-2-アミノエタン、ジグリコールアミン、モルホリン、及びこれらの組合せからなるグループから選択され、 前記少なくとも1種の第四級塩基が、水酸化テトラエチルアンモニウム(TEAH)、水酸化テトラプロピルアンモニウム(TPAH)、水酸化テトラブチルアンモニウム(TBAH)、水酸化トリブチルメチルアンモニウム(TBMAH)、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム(BTMAH)、水酸化エチルトリメチルアンモニウム、水酸化コリン、水酸化トリス(2-ヒドロキシエチル)メチルアンモニウム、水酸化ジエチルジメチルアンモニウム、水酸化テトラブチルホスホニウム(TBPH)、水酸化テトラメチルホスホニウム、水酸化テトラエチルホスホニウム、水酸化テトラプロピルホスホニウム、水酸化ベンジルトリフェニルホスホニウム、水酸化メチルトリフェニルホスホニウム、水酸化エチルトリフェニルホスホニウム、水酸化N-プロピルトリフェニルホスホニウム、およびこれらの組合せからなるグループから選択された種を含み、 前記少なくとも1種の錯化剤が、システインを含み、 前記少なくとも1種の還元剤が、アスコルビン酸、L(+)-アスコルビン酸、イソアスコルビン酸、アスコルビン酸誘導体、没食子酸、ホルムアミジンスルフィン酸、尿酸、酒石酸、システイン、およびこれらの任意の組合せからなるグループから選択された種を含み、 前記少なくとも1種の有機アミンの量が、前記組成物の総重量に対して、2重量%から8重量%の範囲であり、 前記少なくとも1種の第四級塩基の量が、前記組成物の総重量に対して、5重量%から10重量%の範囲であり、 前記少なくとも1種の錯化剤の量が、前記組成物の総重量に対して、0.00005重量%から0.2重量%の範囲であり、 前記少なくとも1種の還元剤の量が、前記組成物の総重量に対して、2重量%から8重量%の範囲である、組成物。
IPC (9件)：
C11D 7/32 ( 200 6.01)
, C11D 7/50 ( 200 6.01)
, C11D 7/26 ( 200 6.01)
, C11D 7/36 ( 200 6.01)
, C11D 7/22 ( 200 6.01)
, C11D 7/34 ( 200 6.01)
, C23G 1/18 ( 200 6.01)
, C23G 1/20 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
C11D 7/32
, C11D 7/50
, C11D 7/26
, C11D 7/36
, C11D 7/22
, C11D 7/34
, C23G 1/18
, C23G 1/20
, H01L 21/304 622 Q
, H01L 21/304 647 A
