研究者
J-GLOBAL ID:202401009455503232   更新日: 2024年10月17日

関口 敦

セキグチ アツシ | SEKUGUCHI Atsushi
所属機関・部署:
職名: 教授
研究分野 (2件): 薄膜、表面界面物性 ,  電子デバイス、電子機器
研究キーワード (6件): プラズマ応用 ,  微細加工 ,  化学気相成長法 ,  表面科学 ,  薄膜技術 ,  真空工学
論文 (53件):
  • A. Taguchi, S. Takahashi, A. Sekiguchi, K. Kaneko, S. Fujita, T. Onuma, T. Honda, T. Yamaguchi. Mist Chemical Vapor Deposition Growth of alpha-In2O3 Films Using Indium Oxide Powder as Source Precursor. physica status solidi (b). 2021. 259. 2100414-1-2100414-4
  • Tomohiro Yamaguchi, Subaru Takahashi, Takanori Kiguchi, Atsushi Sekiguchi, Kentaro Kaneko, Shizuo Fujita, Hiroki Nagai, Mitsunobu Sato, Takeyoshi Onuma and Tohru Honda. Impact of hydrochloric acid on the epitaxial growth of In2O3 films on (0001)α-Al2O3 substrates by mist CVD. Applied Physics Express. 2020. 13. 075504-1-075504-4
  • 高見知秀,関口敦. ガラスナノピペットのガスフローコンダクタンスの研究. 工学院大学 総合研究所年報 第26号 2018 年度. 2019. 26. 108-115
  • 関口敦,佐々木美桜,佐藤杏佳,新谷駿,及川実那子,遠藤和佳奈,佐藤天大. 小学生および保護者のための真空体験教室開催報告-第26回工学院大学わくわくサイエンス祭科学教室-. 表面と真空. 2019. 61. 12. 736-739
  • 関口敦,鈴木美由菜,関根智七海,川口功太郎,鈴木有里沙,土屋沙織. 小学生および保護者のための真空体験教室開催報告-第25回工学院大学わくわくサイエンス祭科学教室-. 表面と真空. 2018. 61. 12. 809-812
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MISC (3件):
  • 松橋亮,小出知昭,関口敦. 貫通電極形成. 電子材料. 2006. 45. 11
  • 関口敦,小出知昭. MEMS 用金属膜の CVD による貫通配線. 電子材料. 2006. 43. 11
  • 関口敦. メタルCVD装置における液体流量制御の使用事例. 計測技術. 1997. 1997. 10
特許 (42件):
書籍 (3件):
  • トコトンやさしい真空技術の本
    日刊工業新聞社 2019 ISBN:9784526080074
  • ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用
    コロナ社 2016 ISBN:9784339046502
  • Microchemistry Spectroscopy and Chemistry in Small Domains
    North-Holland 1994 ISBN:0444815139
講演・口頭発表等 (25件):
  • Impact of gas type on formation of twin structure in the growth of a-Ga2O3 by mist chemical vapor deposition
    (The 10th Asia-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors (APWS 2022) 2022)
  • Importance of dissolving source precursor of Ga(C5H7O2)3 with HCl in mist CVD for α-Ga2O3 growth
    (2022 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM202) 2022)
  • ミスト化学気相成長法コランダム構造酸化ガリウム薄膜のガス種による双晶形成への影響
    (第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022)
  • Carrier gas type dependence of Ga2O3 thin film grown by mist Chemical Vapor Deposition
    (The 20th International Symposium on Advanced Technology (ISAT-20) 2021)
  • Impacts of hydrochloric acid concentration and ,growth temperature on mist chemical vapor deposition ,growth of Ga2O3
    (6th International Conference on Advanced Electromaterials 2021)
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学位 (1件):
  • 博士(理学) (青山学院大学大学院)
経歴 (7件):
  • 2024/06 - 現在 工学院大学 教育支援機構 特任教授
  • 2004/04 - 現在 青山学院大学大学院 理工学研究科 非常勤講師
  • 2020/04 - 2024/06 工学院大学 教育支援機構 特任教授
  • 2023/04 - 青山学院大学大学院 理工学研究科 機能物質創成コース 客員教授
  • 2016/04 - 2020/03 工学院大学 学習支援センター 講師
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委員歴 (12件):
  • 2024/05 - 現在 公益社団法人 日本表面真空学会 功労会員
  • 2024/04 - 現在 公益社団法人 日本表面真空学会 規格標準化委員会
  • 2013/04 - 現在 公益社団法人 日本表面真空学会 教育・育成委員会委員
  • 2019/05 - 2024/05 公益社団法人 日本表面真空学会 協議員
  • 2020/05 - 2021/04 公益社団法人 日本表面真空学会 JIS 原案作成委員会委員
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受賞 (3件):
  • 2024/05 - 公益社団法人 日本表面真空学会 真空と表面の匠 CVD成膜装置の開発とCVD技術普及への貢献
  • 2022/05 - 一般社団法人 日本真空工業会 感謝賞 真空ウォーキングコース開催に関する協力に関して
  • 2013/02 - 川崎市 かわさき環境ショーウインドウ大賞 2012 社内実験設備に関する電力モニターシステムの構築と消費電力削減活動
所属学会 (4件):
公益社団法人 日本表面真空学会 ,  AVS ,  公益社団法人 応用物理学会 ,  公益社団法人 日本化学会
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