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J-GLOBAL ID：200901037517336334   Update date: Feb. 17, 2022

Kubo Toshiharu

クボ トシハル | Kubo Toshiharu
Affiliation and department：
Nagoya Institute of Technology Graduate School of Engineering Shikumi College

About Nagoya Institute of Technology Graduate School of Engineering Shikumi College


Job title： Associate Professor
Homepage URL  (1)： http://www.geocities.jp/egawa_lab/
Research field  (3)： Electronic devices and equipment ,  Electric/electronic material engineering ,  Applied materials
Research keywords  (1)： electronic device
Research theme for competitive and other funds  (10)：
  • 2010 - 現在 Electronic states at insulator/GaN interface
  • 2019 - 2022 極微細金属パターン付き基板による高性能低消費電力グラフェンFETの作製
  • 2020 - 2021 Si基板上GaNパワーデバイスの性能を向上させるゲート構造用絶縁膜の開発
  • 2019 - 2020 極微細金属パターン付き基板を用いた高性能グラフェン FET の作製
  • 2017 - 2020 低炭素社会を実現する次世代パワーエレクトロニクスプロジェクト/GaNパワーデバイス等の実用化加速技術開発
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Papers (23)：
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Patents (2)：
  • ゲート絶縁膜の形成方法、および、ゲート絶縁膜
  • グラフェンデバイスおよびその製造方法
Lectures and oral presentations  (87)：
  • ALDにより成膜したSiO2/Al2O3 2層絶縁膜を用いたノーマリーオフ型AlGaN/GaN MIS-HEMTの電気特性評価
    (電子情報通信学会11月研究会 2021)
  • ALDにより成膜したSiO2/Al2O3 2層絶縁膜を用いたノーマリーオフ型AlGaN/GaN MIS-HEMTの電気特性
    (第82回応用物理学会秋季学術講演会 2021)
  • Pt/ALD-Al2O3/AlGaN/GaN MIS-HEMTの電気特性に及ぼすフォーミングガスアニールの効果III
    (第68回応用物理学会春季学術講演会 2021)
  • 転写フリーグラフェンの結晶性に及ぼすNi金属触媒の結晶性の効果II
    (第68回応用物理学会春季学術講演会 2021)
  • Estimation of Electrical Properties of AlGaN/GaN MIS-HEMTs with SiO2/Al2O3 Double Insulators Fabricated by ALD
    (ISPlasma2021 2021)
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Education (2)：
  • 1999 - 2005 Keio University Graduate School, Division of Science and Engineering School of Fundamental Science and Technology
  • 1995 - 1999 Keio University Faculty of Science and Engineering Department of applied physics and physico-informatics
Professional career (2)：
  • 博士(工学) (慶應義塾大学)
  • Doctor(Engineering) (Keio University)
Work history (4)：
  • 2018/04/01 - 現在 Nagoya Institute of Technology Graduate School of Engineering Shikumi College Associate Professor
  • 2010/04/01 - 2018/03/31 Nagoya Institute of Technology Assistant Professor
  • 2008/12/15 - 2010/03/31 Hokkaido University Research Center for Integrated Quantum Electronics Part-time researcher for university or other academic organization
  • 2005/10/15 - 2008/12/14 The University of Tokyo School of Engineering Part-time researcher for university or other academic organization
Committee career (5)：
  • 2018/04/01 - 現在 電子情報通信学会電子デバイス研究会 委員
  • 2014/04/01 - 現在 応用物理学会応用電子物性分科会 幹事
  • 2016/10 - 2018/11/16 日本応用物理学会 IWN2018(金沢)実行委員会・現地実行委員
  • 2016/10 - 2017/11 日本応用物理学会 IWUMD2017(福岡)実行委員会・寄付/展示委員
  • 2010/11 - 2011/03 実行委員
Awards (1)：
  • 2017/03/05 - ISPlasma2017/IC-PLANTS2017 Committee ISPlasma2017/IC-PLANTS2017 Best Presentation Award
Association Membership(s) (2)：
電子情報通信学会電子デバイス研究会 ,  日本応用物理学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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