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J-GLOBAL ID：200901039341542318   Update date: Sep. 13, 2022

Ono Kouichi

オノ コウイチ | Ono Kouichi
Affiliation and department：
Kyoto University Graduate School of Engineering, Department of Aeronautics and Astronautics, Graduate School of Engineering Department of Aeronautics and Astronautics

About Kyoto University Graduate School of Engineering, Department of Aeronautics and Astronautics, Graduate School of Engineering Department of Aeronautics and Astronautics


Job title： Professor,Professor
Research field  (4)： Aerospace engineering ,  Thin-film surfaces and interfaces ,  Basic plasma science ,  Applied plasma science
Research keywords  (8)： マイクロ・ナノ工学 ,  航空宇宙工学 ,  表面界面物性 ,  プラズマ理工学 ,  micro-and nano-engineering science ,  Aeronautical and Astronautical Engineering Science ,  Surface and Interface Science and Technology ,  Plasma Socience and Technology
Research theme for competitive and other funds  (12)：
  • 2002 - 2004 先進的プラズマプロセス技術に関する研究
  • 2002 - 2004 先進的プラズマプロセス技術に関する研究
  • 2002 - 2004 ナノサテライトのためのマイクロプラズマスラスターに関する研究
  • 2002 - 2004 Study on Aduanced Plasma Processing Technology
  • 2002 - 2004 Study on Aduanced Plasma Processing Technology
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Papers (142)：
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MISC (26)：
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Patents (12)：
  • "Magnetically Enhanced Microwave Generation Apparatus"
  • "Ion Beam Generator"
  • "Ion Current Generator System for Thin Film Formation, Ion Implantation, Etching, and Sputtering"
  • "Dry Etching Apparatus"
  • "Ion Source"
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Books (39)：
  • プラズマエッチングにおけるナノスケール表面形状揺らぎ (解説)
    プラズマ・核融合学会誌, Vol. 90, No. 7 (2014), pp. 398-404. 2014
  • プラズマナノ加工における表面ラフネスとリップル形成機構 (解説)
    表面科学, Vol. 34, No. 10 (2013), pp. 528-534. 2013
  • 巻頭言 「年頭所感:プラズマ科学とプラズマ応用」 (解説)
    プラズマ・核融合学会誌, Vol. 89, No. 1 (2013), pp. 1-2. 2013
  • High-k 膜のドライエッチング, 「ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術-成膜技術と膜・界面の物性科学-」
    (エヌ・ティー・エス社, 2012) 2012
  • 先端プラズマエッチングプロセスのモデリングと体系化 (解説)
    化学工業, Vol. 61, No. 6 (2010), pp. 457-465. 2010
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Works (2)：
  • High-kケント絶縁膜およびメタルケント電極の加工技術開発
    2002 -
  • Research and Development of Plasma Etching Technology for High-k Gate drelectric thin Films and Metal Gate Electrodes
    2002 -
Education (4)：
  • - 1978 Kyoto University
  • - 1978 Kyoto University Graduate School, Division of Engineering Department of Aeronautics and Astronautics
  • - 1973 Kyoto University Faculty of Engineering
  • - 1973 Kyoto University Faculty of Engineering Department of Aeronautical Engineering
Professional career (1)：
  • Doctor of Engineering (Kyoto University)
Work history (8)：
  • 1995 - 1998 三菱電機株式会社先端技術総合研究所主幹研究員
  • 1995 - 1998 Mitsubishi Electric Corporation, Advanced Technology R&D Center, Principal Researcher
  • 1998 - - 京都大学大学院工学研究科教授
  • 1998 - - Kyoto University, Graduate School of Engineering, Professor
  • 1992 - 1995 三菱電機株式会社半導体基礎研究所主任研究員
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Committee career (3)：
  • 2000 - 2001 日本航空宇宙学会 関西支部幹事
  • 1996 - 1998 応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会副幹事長,幹事長,関西支部幹事
  • 1993 - 1996 電気学会 調査専門委員会幹事
Awards (2)：
  • 1997 - 第56回注目発明科学技術庁長官表彰
  • 1995 - 国際純粋応用化学連合(IUPAC : International Union of Pure and Applied Chemistry), 第12回プラズマ化学国際会議(ISPC-12 : 12th International Sympsium on Plasma Chemistry) プラズマ化学賞(Plasma Chemistry Prize)
Association Membership(s) (8)：
プラズマ・核融合学会 ,  米国航空宇宙学会(AIAA:American Institute for Aeronautics and Astronautics) ,  日本航空宇宙学会 ,  米国真空学会(AVS : American Vacuum Society) ,  米国物理学会(APS : American Physical Society) ,  電気学会 ,  日本物理学会 ,  応用物理学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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