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J-GLOBAL ID：200902236289422779   Reference number：04A0442463

Plasma Copolymerization of C₆F₆/C₅F₈ for Application of Low-Dielectric-Constant Fluorinated Amorphous Carbon Films and Its Gas-Phase Diagnostics Using In Situ Fourier Transform Infrared Spectroscopy

誘電定数の小さいフッ素化無定形炭素膜の応用のためのC₆F₆/C₅F₈のプラズマ共重合とin situフーリエ変換赤外分光法を用いたその気相診断

Author (4)： SHIRAFUJI T (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  TSUCHINO A (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  NAKAMURA T (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  TACHIBANA K (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 43  Issue： 5A  Page： 2697-2703  Publication year： May. 15, 2004 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma CVD ,...
Semi thesaurus term： ボイド【結晶】

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Substance index (1)： Fluoromethane

Reference (19)：

• 1) International Technology Roadmap for Semiconductors 2003 Edition Interconnect (2003) p. 5.
• 2) M. Sekine: Appl. Surf. Sci. 192 (2002) 270.
• 3) R. D. Miller, R. Beyers, K. R. Carter, R. F. Cook, M. Harbison, C. J. Hawker, J. L. Hedrick, V. Lee, E. Liniger, C. Nguyen, J. Remenar, M. Sherwood, M. Trollsas, W. Volksen and D. Y. Yoon: Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 565 (1999) 3.
• 4) Y. Uchida, T. Katoh, S. Sugahara and M. Matsumura: Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) L1155.
• 5) A. Jain, S. Rogojevic, S. Ponoth, N. Agarwal, I. Matthew, W. N. Gill and P. Persans: Thin Solid Films 398–399 (2001) 513.

Terms in the title (9)： 誘電定数 ,  フッ素化 ,  無定形炭素 ,  応用 ,  プラズマ ,  共重合 ,  フーリエ変換赤外分光法 ,  気相 ,  診断