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J-GLOBAL ID:200901084286903310   Update date: Sep. 19, 2024

Matsumoto Satoru

マツモト サトル | Matsumoto Satoru
Affiliation and department:
Job title: Professor
MISC (265):
Books (6):
  • 基本から学ぶ電子物性
    電気学会 2011
  • 次世代ULSIプロセス技術
    リアライズ社 2000
  • 半導体大事典
    工業調査会 1999
  • 超精密技術体系 第2巻,実用技術「レーザードーピング装置」分担
    フジ・テクノシステム 1994
  • レーザプロセス技術ハンドブック
    朝倉書店 1992
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Lectures and oral presentations  (18):
  • “Epitaxial Growth of Pure 30Si Layers on a Natural Si(100) Substrate Using Enriched 30SiH4”,
    (First Int’ Workshop on New Group IV Semiconductors 2001)
  • 「GS-MBEの選択成長を用いたc-Si/SiO2低次元構造の作成」
    (電子情報通信学会 2001)
  • 「安定同位体30Siを用いた外因性Si中におけるSi自己拡散」
    (応用物理学会 2001)
  • 「CZ-Si中におけるPの過渡増速拡散、損失に及ぼす窒化膜偏析の影響」
    (応用物理学会 2001)
  • 「Si(100)上へのBPのエピタキシャル薄膜の選択成長」
    (応用物理学会 2001)
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Education (6):
  • - 1976 Keio University
  • - 1976 Keio University Graduate School, Division of Engineering
  • - 1973 Keio University
  • - 1973 Keio University Graduate School, Division of Engineering
  • - 1971 Keio University
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Professional career (1):
  • 工学 (慶應義塾大学)
Work history (12):
  • 1998 - 1999 :慶應義塾大学大学院 ,入試事務長
  • 1999 - -:兼慶應義塾大学大学院先端電気電子工学 ,専修主任
  • 1995 - 1997 :兼慶應義塾大学理工学部電気工学科 ,教室幹事
  • 1994 - 1996 :慶應義塾大学理工学部電気工学科 ,教授
  • 1996 - -:慶應義塾大学理工学部電子工学科兼電気工学科 ,教授
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Committee career (5):
  • 1989/07 - (社)電気学会 論文委員会 幹事
  • 1989/06 - (社)電気学会 「電子・情報・システム部門誌委員会」 幹事
  • 1988/01 - (社)電気学会 「レーザ励起ドライプロセス調査専門委員会」 幹事
  • 1984/04 - (社)電気学会 論文委員
  • 1979/04 - 1981/03 (社)電子通信学会 海外論文委員
Association Membership(s) (6):
(社)電子通信学会 ,  (社)電気学会 ,  (社)電気学会 「レーザ励起ドライプロセス調査専門委員会」 ,  (社)電気学会 「電子・情報・システム部門誌委員会」 ,  (社)電気学会 論文委員会 ,  電気学会 「放射光励起プロセス」技術調査専門委員会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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