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J-GLOBAL ID：200902017047166499   Reference number：89A0222405

Thin film preparation technology by low energy ion beam deposition.

低エネルギーイオンビーム蒸着による薄膜作製技術

Author (1)： ISHIKAWA JUNZO (京大 工)
Material： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
Volume： 31  Issue： 11  Page： 889-898  Publication year： Nov. 1988 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： ion beam deposition ,...

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JST classification (2)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I) ,  Applications of electron beams and ion beams  (BD02070X)

Reference (10)：

• 1) T. Takagi : Thin Solid Films, 92 (1982) 1.
• 2) T. Takagi : J. Vac. Sci. Technol., A2, 2 (1984) 382.
• 3) 高木俊宜 : 応用物理, 55, 8 (1986) 746.
• 4) J. Ishikawa, H. Takaoka, K. Fujime and T. Takagi : Proc. 6th Intern. Conf. on Ion & Plasma Assisted Techniques, Brighton, 1987 (CEP Consultants Ltd., Edinburgh, 1987) p. 33.
• 5) H. Takaoka, J. Ishikawa and T. Takagi : Thin Solid Films, 157 (1988) 143.

Terms in the title (3)： 低エネルギー ,  イオンビーム蒸着 ,  薄膜作製