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J-GLOBAL ID：200902084350955209   Reference number：88A0042546

CO₂ laser-induced surface oxidation and etching of Si and Si₃N₄.

CO₂レーザによるSiおよびSi₃N₄表面酸化反応層の形成と表面層の除去機構

Author (8)： TSUCHIYA HACHIRO (京都工繊大 工芸) ,  GOTO HIDEKAZU (京都工繊大 工芸) ,  MORI YUZO (大阪大 工) ,  HIROSE KIKUJI (帝国女大) ,  ENDO KATSUYOSHI (大阪大 工) ,  YAMAUCHI KAZUTO (大阪大 工) ,  MIYAZAKI MAKOTO (京都工繊大 工芸) ,  NISHI MASAFUMI (三洋電機)
Material： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
Volume： 53  Issue： 11  Page： 1765-1771  Publication year： Nov. 1987 
JST Material Number： F0268A  ISSN： 0912-0289  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： carbon dioxide laser ,...

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JST classification (1)： Other surface treatment  (WC08070F)

Reference (20)：

• 1) T. J. Chuang : Laser-induced Chemical Etching of Solids : Promises and Challenges, Materials Research Soc. Symposia Proc. 29, Laser-controlled Chemical Processing of Surfaces, ed. by A. W. Johnson, D. J. Ehrlich and H. R. Schlossberg, North-Holland, (1984) 185.
• 2) D. J. Ehrlich and J. Y. Tsao : A Review of Lasermicrochemical Processing, J. Vac. Sci. Technol., B 1, 4, (1983) 969.
• 3) T. J. Chuang : Laser-enhanced Gas-surface Chemistry : Basic Processes and Applications, J. Vac. Sci. Technol., 21, 3, (1982) 798.
• 4) 森田 昇, 石田修一, 長野幸隆 : セラミックスのレーザ加工, 昭和60年度精機学会春季大会学術講演会講演論文集(1985)161.
• 5) 松井伸介, 小薮国夫, 渡辺純二 : レーザアシストケミカルエッチング(第5報)-種々のセラミックスに対する加工特性, 昭和60年度精機学会春季大会学術講演会講演論文集(1985)125.

Terms in the title (6)： CO2レーザ ,  Si ,  Si3N4 ,  表面酸化 ,  反応層 ,  表面層