Art

J-GLOBAL ID：200902107422508717   Reference number：99A0609734

Chemically Amplified Negative Resists Based on Alicyclic Acrylate Polymers for 193-nm Lithography.

193nmリソグラフィー用の脂環式アクリル酸エステル重合体に基づいた化学増幅ネガティブ型レジスト

Author (3)： IWASA S (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  MAEDA K (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  HASEGAWA E (NEC Corp., Kanagawa, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 12  Issue： 3  Page： 487-492  Publication year： 1999 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemically amplified resist ,...
Semi thesaurus term： ネガティブ型レジスト

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JST classification (3)： Physical properties of polymer solids  (CG02024U) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Bridged tri-or more-cyclic carbocyclic compounds  (CF06110B)

Substance index (4)： Acrylic acid 2-[(1,2-dihydroxy-4,7-methanohydrindane-5-yl)oxy]ethyl ester ,  Methacrylic acid 2-[(1,2-dihydroxy-4,7-methanohydrindane-5-yl)oxy]ethyl ester ,  Acrylic acid 2-[(1,2-epoxy-4,7-methanohydrindane-5-yl)oxy]ethyl ester ,  Acrylic acid 8-oxo-3,5-(epoxymethano)norbornane-2-yl ester

Reference (23)：

• 1). S. Takechi, Y. Kaimoto, K. Nozaki, and N. Abe, J. Photopolym. Sci. Technol., 5, 439 (1992).
• 2). K. Nakano, K. Maeda, S. Iwasa, J. Yano, Y. Ogura, and E. Hasegawa, Proc. SPIE, 2195, 194 (1994).
• 3). K. Nakano, K. Maeda, S. Iwasa, T. Ohfuji, and E. Hasegawa, Porc. SPIE, 2438, 433 (1995).
• 4). M. Takahashi, S. Takechi, Y. Kaimoto, I. Hanyu, N. Abe, and K Nozaki, Proc. SPIE, 2438, 422 (1995).
• 5). R. D. Allen, G. M. Wallraff, R. A. DiPietro, D. C. Hofer, and R. R. Kunz, Proc. SPIE, 2438, 474 (1995).

Terms in the title (6)： リソグラフィー ,  脂環 ,  アクリル酸エステル重合体 ,  化学 ,  増幅 ,  ネガティブ型レジスト