Art

J-GLOBAL ID：200902107892566039   Reference number：94A0598421

Preparation of chemically amplified photoresists with N-hydroxyphthalimide styrenesulfonate groups and their properties.

N-ヒドロキシフタルイミドスチレンスルホン酸エステル基含有化学増幅フォトレジストの調製及びそれらの性質

Author (2)： CHAE K H (Chonnam National Univ., Kwangju, KOR) ,  OH Y J (Chonnam National Univ., Kwangju, KOR)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 7  Issue： 1  Page： 183-186  Publication year： 1994 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： photoresist ,...
Semi thesaurus term： 化学増幅フォトレジスト ,...

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JST classification (2)： Other reactions of polymer  (CG03040H) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (7)：

• 1). G. Berner, R. Kirchmayr, G. Rist, and W. Rutsch, J. Rad. Curing, 13, 10 (1986).
• 2). M. Shirai, T, Masuda, M. Tsunooka, and M. Tanaka, Macromol. Chem. Rapid Commun., 5, 689 (1984).
• 3). F. M. Houlihan, A, Shugard, R. Gooden, E. Reichmanis, Macromolecules, 21, 2001 (1988).
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• 5). K. H. Chae, I. K. Park, and M. H. Choi, Bull. Korean Chem. Soc., 15, 614 (1993).

Terms in the title (8)： N-ヒドロキシフタルイミド ,  スチレンスルホン酸 ,  エステル基 ,  化学 ,  増幅 ,  フォトレジスト ,  調製 ,  性質