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J-GLOBAL ID：200902109214715981   Reference number：99A0208058

Production of Prototype of New LPCVD Using Lamp Heating and Its Study of Characteristics. Properties of Polysilicon Film Deposited.

マイクロマシン用ランプ加熱型減圧CVDの試作と特性研究 ポリシリコンの成膜特性

Author (4)： UEDA TETSUO (セントラルエンジニアリング) ,  KURIBAYASHI KATSUTOSHI (山口大 工) ,  SHIMIZU SEIJI (山口大 工) ,  HASEGAWA SATORU (山口大 工)
Material： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
Volume： 65  Issue： 2  Page： 214-218  Publication year： Feb. 1999 
JST Material Number： F0268A  ISSN： 0912-0289  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,...

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JST classification (1)： Vapor plating  (WC08022K)

Reference (7)：

• 化学工業会. CVDハンドブック. 1991
• TAI, Y. C. IC-processed Electrostatic Synchronous Micromotors. Sensors & Actuators. 1989, 20, 1/2, 49
• TANG, W. C. Laterally Driven Polysilicon Resonant Microstructures. Sensors & Actuators. 1989, 20, 1/2, 25
• JOUBERT, P. The Effect of Low Pressure on the Structure of LPCVD Polycrystallime Silicon Films. J. Electrochem. Soc. : solid-state science and technology. 1987, 2541
• 森本孝克. エレクトロニクス材料の分析. 評価事例集. 1994

Terms in the title (7)： マイクロマシン ,  ランプ ,  減圧CVD ,  試作 ,  研究 ,  ポリシリコン ,  成膜