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J-GLOBAL ID：200902114990394420   Reference number：97A0173636

Electron Beam Direct Writing Techniques for the Development of Sub-Quarter-Micron Devices.

サブクウォータミクロンデバイス開発のための電子ビーム直接描画技術

Author (9)： FUJINO T (Mitsubishi Electric Corp., Itami, JPN) ,  MAEDA H (Mitsubishi Electric Corp., Itami, JPN) ,  KIMURA Y (Mitsubishi Electric Corp., Itami, JPN) ,  HORIBE H (Mitsubishi Electric Corp., Amagasaki, JPN) ,  IMANAGA Y (Ryoden Semiconductor System Engineering, Itami, JPN) ,  SHINKAWATA H (Mitsubishi Electric Corp., Itami, JPN) ,  NAKAO S (Mitsubishi Electric Corp., Itami, JPN) ,  KATO T (Mitsubishi Electric Corp., Itami, JPN) ,  YASUOKA A (Mitsubishi Electric Corp., Itami, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 35  Issue： 12A  Page： 6320-6327  Publication year： Dec. 1996 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： VLSI ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (14)：

• KAGA, T. Tech.Dig.Int.Electron Devices Meet. 1994, 927
• NAKAYAMA, Y. J.Vac.Sci.Technol. 1990, B8, 1836
• SAITOU, N. Proc.1990 Int.Symp.Microprocess Conf. 44
• YASUDA, H. Proc.1991 Int.Symp.Microprocess Conf. 133
• NISHIOKA, Y. Tech.Dig.Int.Electron Devices Meet. 1995, 903

Terms in the title (3)： 開発 ,  電子ビーム ,  直接描画