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J-GLOBAL ID：200902115272653805   Reference number：02A0680760

The Consideration on The Initial Growth Stage of Sputtered Ag Thin Films Observed by Ellipsometry.

偏光解析法を用いたAgスパッタ薄膜の初期成長過程の考察

Author (3)： SHIMIZU HIDEHIKO (新潟大) ,  HOSHI YOICHI (東京工芸大) ,  KAWABATA SHUICHI (東京工芸大)
Material： 電気学会論文誌 A  (IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
Volume： 122-A  Issue： 8  Page： 755-760  Publication year： Aug. 01, 2002 
JST Material Number： S0808A  ISSN： 0385-4205  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *island structure ,...
Semi thesaurus term： 磁性人工格子

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JST classification (1)： Magnetic materials  (NA04040H)

Reference (11)：

• TAKAHASHI, M. The Ultra Clean Sputtering Process and High Density Magnetic Recording Media. IEEE Trans. on Magn. 1997, 33, 5, 2938-2943
• TAKAHASHI, M. Magnetic Microstructure and Media Noise of Thin Film Media Fabricated under Ultra Clean Sputtering. J. Mag. Soc. Jpn. 1997, 21, S2, 499-504
• 角田匡清. 極清浄雰囲気中で作製した Ag-Co 薄膜の構造と GMR 効果(Cu-Co薄膜との比較). 日本応用磁気学会誌. 1999, 23, 4-2, 1341-1344
• 小池邦博. イオンビームスパッタ法による Co-Cr/Ag/Cr/Glass 薄膜の磁気特性. 日本応用磁気学会誌. 1997, 21, 4-2, 481-484
• 大場正志. Co/X/Gd/X 人工格子 (X=Cu, Ag, Au, Pt, YおよびW) の間接交換結合と磁化過程. 日本応用磁気学会誌. 1997, 21, 4-2, 537-540

Terms in the title (6)： 偏光解析法 ,  Ag ,  スパッタ ,  薄膜 ,  初期 ,  成長過程