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J-GLOBAL ID：200902120491582526   Reference number：98A0163827

Influence of Ar Ion Addition on Synthesis of Carbon Nitride Films by Ion-Beam-Assisted Deposition.

イオンビーム支援蒸着法による窒化炭素膜形成におけるArイオン添加の効果

Author (5)： KANZAKI MASAO (名古屋大 大学院) ,  MATSUMURO AKIHITO (名古屋大 大学院) ,  MURAMATSU MUTSUO (名古屋大 大学院) ,  HAYASHI TOSHIYUKI (名古屋大 大学院) ,  YAMAGUCHI KATSUMI (名古屋大 大学院)
Material： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
Volume： 64  Issue： 1  Page： 152-156  Publication year： Jan. 1998 
JST Material Number： F0268A  ISSN： 0912-0289  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： plasma CVD ,...
Semi thesaurus term： 成膜温度

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JST classification (1)： Vapor plating  (WC08022K)

Reference (7)：

• LIU, A. Y. Predection of New Low Compressibility Solid. Science. 1989, 245, 841
• HAN, H. -X. Structural and Optical Properties of Amorphous Carbon Nitride. Solid State Commun. 1988, 65, 921
• MAYA, L. Pyrolytic Deposition of Carbon Films Containing Nitrogen and/or Boron. J. Am. Ceram. Soc. 1912, 73, 1912
• CHEN, M. Y. Growth and Characterization of C-N Thin Films. Surf. Coat. Technol. 1992, 54/55, 360
• KRISHAN, M. G. Low Temperature Synthesis of Thin Films of Carbon Nitride. J. Mater. Res. 1995, 10, 1083

Terms in the title (4)： イオンビーム支援蒸着 ,  窒化炭素 ,  膜形成 ,  Arイオン