Art

J-GLOBAL ID：200902123137271350   Reference number：01A0711437

Oxygenation Process of Ti-O Films Formed by Reactive Ion Plating.

反応性イオンめっきによって形成したTi-O薄膜の酸素添加過程

Author (4)： OUMI K (Toyo Univ., Saitama, JPN) ,  KASHIWAGI K (Toyo Univ., Saitama, JPN) ,  KOKAI H (Toyo Univ., Saitama, JPN) ,  MURAYAMA Y (Toyo Univ., Saitama, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 40  Issue： 5A  Page： L468-L470  Publication year： May. 01, 2001 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： oxygenation ,...
Semi thesaurus term： 反応性イオンめっき

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Reference (8)：

• 1) Q. Tang, K. Kikuchi, S. Ogura and A. Macleod: J. Vac. Sci. & Technol. A <B>17</B> (1999) 3379.
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Terms in the title (6)： 反応性 ,  イオンめっき ,  Ti ,  薄膜 ,  酸素添加 ,  過程