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J-GLOBAL ID：200902127730541491   Reference number：00A1058905

Radical kinetics for polymer film deposition in fluorocarbon (C₄F₈,C₃F₆ and C₅F₈) plasmas.

フルオロカーボン(C₄F₈,C₃F₆及びC₅F₈)プラズマ中の高分子膜堆積のラジカル反応速度

Author (4)： TAKAHASHI K (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  ITOH A (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  NAKAMURA T (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  TACHIBANA K (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
Material： Thin Solid Films
Volume： 374  Issue： 2  Page： 303-310  Publication year： Oct. 17, 2000 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma polymerization ,...

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JST classification (2)： Homopolymerization  (CG04020S) ,  Thin films of organic compounds  (BK14070L)

Substance index (3)： Hexafluorocyclopropane ,  Octafluorocyclobutane ,  Octafluorocyclopentene

Terms in the title (6)： フルオロカーボン ,  プラズマ ,  高分子膜 ,  堆積 ,  ラジカル ,  反応速度