Art

J-GLOBAL ID：200902128577961954   Reference number：97A0244709

Properties of Sputtered TiNi Shape Memory Alloy Thin Films.

成膜プロセス・界面形成 スパッタリング法によるTiNi形状記憶合金薄膜の作製とその特性

Author (5)： IKEDA TETSU (大分県産業科技セ) ,  OZEKI YOSHITOMO (大阪大 工) ,  SAKURAI DAISUKE (大阪大 工) ,  FUJIMOTO KOZO (大阪大 工) ,  NAKATA SHUJI (大阪大 工)
Material： Symposium on Microjoining and Assembly Technology in Electronics  (Proceedings of the Symposium on Microjoining and Assembly Technology in Electronics)
Volume： 3rd  Page： 131-136  Publication year： Feb. 1997 
JST Material Number： L2496A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： Nitinol ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=97A0244709&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L2496A") }}

JST classification (3)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  Other metallography  (WB01040Y) ,  Control equipment in general  (IC02010N)

Terms in the title (7)： 成膜プロセス ,  界面 ,  スパッタリング法 ,  TiNi ,  形状記憶 ,  合金薄膜 ,  作製