Art

J-GLOBAL ID：200902130616617527   Reference number：01A0758361

Recent Progress in ArF Lithography for the 100nm Node.

100nmノード用のArFリソグラフィーの最近の進歩

Author (7)： GOETHALS A M (IMEC, Leuven, BEL) ,  VANDENBERGHE G (IMEC, Leuven, BEL) ,  POLLENTIER I (IMEC, Leuven, BEL) ,  ERCKEN M (IMEC, Leuven, BEL) ,  DE BISSCHOP P (IMEC, Leuven, BEL) ,  MAENHOUDT M (IMEC, Leuven, BEL) ,  RONSE K (IMEC, Leuven, BEL)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 14  Issue： 3  Page： 333-340  Publication year： 2001 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *laser lithography ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Various photographies  (ZA03040M)

Reference (26)：

• 1) I. Pollers et al, OMM Interface '98 proceedings, (1998), 179.
• 2) K. Rouse et al, Proc. SPIE 4000 (2000), 410-422.
• 3) A.M. Goethals et al, J. Photopolym. Sci. Technol., Vol. 13, No 4, p. 635 (2000).
• 4) Bert Vleeming et al, Proc. SPIE 4343-61 (2001), to be published
• 5) I. Pollentier et al, Proc. Interface, (2000), p. 265.

Terms in the title (3)： ノード ,  ARF ,  リソグラフィー