Art

J-GLOBAL ID：200902158857024189   Reference number：96A0613996

A Novel Polymer for a 193-nm Resist.

193nmレジスト用の新規の重合体

Author (6)： NOZAKI K (Fijitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN) ,  WATANABE K (Fijitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN) ,  YANO E (Fijitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN) ,  KOTACHI A (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  TAKECHI S (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  HANYU I (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 9  Issue： 3  Page： 509-522  Publication year： 1996 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： laser lithography ,...
Semi thesaurus term： bridged compound ,...

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JST classification (3)： Other reactions of polymer  (CG03040H) ,  Acrylic resins  (YH07110K) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (2)： Mevalonic lactone methacrylate ,  2-Methyl-2-adamantyl methacrylate

Reference (13)：

• 1) S. Takechi, Y. Kaimoto, K. Nozaki and N. Abe, J. Photopolym. Sci. Technol., 5(3), 439(1992).
• 2) Y. Kaimoto, K. Nozaki, S. Takechi, and N. Abe, Proc. SPIE, 1672, 66(1992).
• 3) K. Nozaki, Y. Kaimoto, S. Takechi, and N. Abe, Extended Abstracts, The 53rd Autumn Meeting JSAP, 504(1992).
• 4) K. Nozaki, Y. Kaimoto, M. Takahashi, S. Takechi, and N. Abe, Chem. Mater. 6(9), 1492(1994).
• 5) S. Takechi, M. Takahashi, and I. Hanyu, Proc. OCG Microlithography, INTERFACE'95, 43 (1995).

Terms in the title (2)： レジスト ,  重合体