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J-GLOBAL ID：200902166019972086   Reference number：02A0616911

DFT Calculations of Photoabsorption Spectra in the VUV Region for Design of Photoresist Materials for 157 nm Lithography.

157nmリソグラフィー用のフォトレジスト材料の設計のためのVUV領域における光吸収スペクトルのDFT計算

Author (3)： ANDO S (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  FUJIGAYA T (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  UEDA M (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 15  Issue： 4  Page： 559-568  Publication year： 2002 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： density functional method ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (26)：

• 1). T.M. Bloomstein, M.W. Horn, M. Rothschild, R.R. Kunz, S.T. Palmacci, and R.B. Goodman, J. Vac. Sci. Technol., B15 (1997) 2112.
• 2). M.K. Crawford, A.E. Feiring, J. Feldman, R.H. French, M. Periyasamy, F.L. Schadt, III, R.J. Smalley, F.C. Zumsteg, R.R. Kunz, V. Rao, L. Liao, and S,M. Hall, Proc. SPIE, 3999, (1999) 357.
• 3). H. Ito and R. Schwalm, in Recent Advances in Anionic Polymerization, T.E. Hogen-Esch and J. Smid, eds., Elsevier, New York, (1987).
• 4). H. Ito, N. Seehof, R. Sato, T. Nakayama, and M. Ueda, in Micro- and Nano-Patterning Polymers, H. Ito, E. Reichmanis, O. Nalamasu, and T. Ueno, Eds., American Chemical Society, Washington, D.C., Chapter 16, p.208-223 (1998).
• 5). T. Chiba, R.J. Hung, S. Yamada, B. Trinque, M. Yamachika, C. Brodsky, K. Patterson, A.V. Heyden, A. Jamison, S.-H. Lin, M. Somervell, J. Byers, W. Conley, and C. G. Willson, J. Photopolym. Sci. Technol., 13 (2000) 657.

Terms in the title (6)： リソグラフィー ,  フォトレジスト ,  設計 ,  VUV ,  光吸収スペクトル ,  DFT計算