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J-GLOBAL ID：200902166819777109   Reference number：98A0217114

At-wavelength interferometry for extreme ultraviolet lithography.

極端紫外リソグラフィー用の波長毎の干渉法

Author (9)： TEJNIL E (Lawrence Berkeley National Lab., California) ,  GOLDBERG K A (Lawrence Berkeley National Lab., California) ,  LEE S H (Lawrence Berkeley National Lab., California) ,  MEDECKI H (Lawrence Berkeley National Lab., California) ,  BATSON P J (Lawrence Berkeley National Lab., California) ,  DENHAM P E (Lawrence Berkeley National Lab., California) ,  MACDOWELL A A (Lawrence Berkeley National Lab., California) ,  BOKOR J (Lawrence Berkeley National Lab., California) ,  ATTWOOD D (Lawrence Berkeley National Lab., California)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics Processing and Phenomena)
Volume： 15  Issue： 6  Page： 2455-2461  Publication year： Nov. 1997 
JST Material Number： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *photolithography ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (4)： 極端紫外 ,  リソグラフィー ,  波長 ,  干渉法