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J-GLOBAL ID：200902167850278273   Reference number：00A0382681

Reaction Analysis of Aluminum Chemical Vapor Deposition from Dimethyl-aluminum-hydride Using Tabular Reactor and Fourier-Taansform Infrared Spectroscopy. Theoretical Process Optimization Procedure. (1).

管状反応炉とFourier変換赤外分光法を用いたジメチル水素化アルミニウムからのアルミニウムの化学蒸着の反応分析 理論的プロセス最適化手法 I

Author (5)： SUGIYAMA M (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  ITOH H (Semiconductor Academic Res. Center, Tokyo, JPN) ,  AOYAMA J (Semiconductor Academic Res. Center, Tokyo, JPN) ,  KOMIYAMA H (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  SHIMOGAKI Y (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 39  Issue： 3A  Page： 1074-1079  Publication year： Mar. 15, 2000 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *MOCVD ,...

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JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Substance index (1)： Dimethylaluminum hydride

Reference (15)：

• 1) H. Komiyama, Y. Shimogaki and Y. Egashira: Chem. Eng. Sci. 54 (1999) 1941.
• 2) B. G. Wills and K. F. Jensen: Proc. Advanced Metalization and Interconnect Systems for ULSI Applications 1996 (Material Research Society, Pittsburgh, 1996) p. 29.
• 3) Y. Matsumiya and K. Nakajima: J. Cryst. Growth 181 (1997) 437.
• 4) D. R. Strongin and P. B. Comita: J. Phys. Chem. 95 (1991) 1329.
• 5) T. Wadayama, Y. Maiwa, H. Shibata and A. Hatta: Appl. Surf. Sci. 100/101 (1996) 575.

Terms in the title (9)： Fourier変換赤外分光法 ,  ジメチル ,  水素化アルミニウム ,  アルミニウム ,  化学蒸着 ,  分析 ,  理論 ,  プロセス ,  最適化手法