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J-GLOBAL ID：200902170031308148   Reference number：00A0122706

Reduction of long range fogging effect in a high acceleration voltage electron beam mask writing system.

高加速電圧・電子ビーム描画系における長範囲かぶり効果の低減

Author (9)： OGASAWARA M (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  SHIMOMURA N (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  TAKAMATSU J (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  YOSHITAKE S (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  OOKI K (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  NAKAYAMADA N (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  OKABE H (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  TOJO T (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  TAKIGAWA T (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics Processing and Phenomena)
Volume： 17  Issue： 6  Page： 2936-2939  Publication year： Nov. 1999 
JST Material Number： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *electron beam lithography ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Applications of electron beams and ion beams  (BD02070X)

Terms in the title (3)： 加速電圧 ,  電子ビーム描画 ,  かぶり