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J-GLOBAL ID：200902177091635908   Reference number：01A0743387

Ultrafast deposition of microcrystalline Si by thermal plasma chemical vapor deposition.

熱プラズマ化学蒸着による微結晶Siの超高速蒸着

Author (4)： CHAE Y K (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  OHNO H (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  EGUCHI K (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  YOSHIDA T (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
Material： Journal of Applied Physics  (Journal of General Physics and its Application to Other Sciences and to Industry)
Volume： 89  Issue： 12  Page： 8311-8315  Publication year： Jun. 15, 2001 
JST Material Number： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： solar cell ,...
Semi thesaurus term： step coverage

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (3)： プラズマ化学蒸着 ,  結晶Si ,  蒸着