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J-GLOBAL ID：200902186449851933   Reference number：97A0632271

ArF Surface Modification Resist Process using Polymer System with Polarity Change Unit.

極性変化ユニットを有する重合体系を用いるArF表面修飾レジスト法

Author (4)： MATSUO T (Matsushita Electrnic Ind. Co., Ltd., Osaka, JPN) ,  ENDO M (Matsushita Electrnic Ind. Co., Ltd., Osaka, JPN) ,  SHIRAI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUNOOKA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 10  Issue： 4  Page： 595-601  Publication year： 1997 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： laser lithography ,...
Semi thesaurus term： 表面イメージング ,...

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JST classification (2)： Other reactions of polymer  (CG03040H) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (8)：

• 1) K. Maeda, T. Ohfuji, N. Aizaki and E. Hasegawa, Proc. SPIE, 2438, (1995) 465.
• 2) S. C. Palmateer, R. R. Kunz, M. W. Horn, A. R. Forte and M. Rothschild, Proc. SPIE, 2438, (1995) 455.
• 3) M. Shirai, M. Hayashi and M. Tsunooka, Macromolecules, 25, (1992) 195.
• 4) T. Matsuo, K. Yamashita, M. Endo, M. Sasago, N. Nomura, M. Shirai and M. Tsunooka, Proceedings of the Symposium on VLSI Technology Digests of Technical Papers, (1994) p. 91.
• 5) T. Matsuo, M. Endo, M. Shirai and M. Tsunooka, J. Vac. Sci. Technol., B14 (6), (1996) 4212.

Terms in the title (5)： 極性 ,  重合体 ,  ARF ,  表面修飾 ,  レジスト