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J-GLOBAL ID：200902191824204707   Reference number：00A0057101

Effect of Higher Silanes in Silane Plasmas on Properties of Hydrogenated Amorphous Silicon Films.

水素化非晶質けい素の性質に及ぼすシランプラズマ中の高級シランの効果

Author (1)： SUZUKI A (Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 38  Issue： 11B  Page： L1315-L1317  Publication year： Nov. 15, 1999 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *silicon ,...

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Reference (29)：

• 1) P. R. i Cabarrocas: J. Non-Cryst. Solids 164-166 (1993) 37.
• 2) D. Das, S. N. Sharma and R. Banerjee: J. Non-Cryst. Solids 211 (1997) 229.
• 3) H. Kawasaki, T. Fukuzawa, H. Tsuruoka, T. Yoshioka, M. Shiratani and Y. Watanabe: Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) 4198.
• 4) D. M. Tanenbaum, A. L. Laracuente and A. Gallagher: Appl. Phys. Lett. 68 (1996) 1705.
• 5) T. Takagi, R. Hayashi, G. Ganguly, M. Kondo and A. Matsuda: Thin Solid Films 345 (1999) 75.

Terms in the title (5)： 水素化 ,  非晶質けい素 ,  性質 ,  シラン ,  プラズマ