Art

J-GLOBAL ID：200902194635022893   Reference number：98A0671964

Recent Advancements In Cycloolefin Based Resists For ArF Lithography.

ArFリソグラフィー用環状オレフィン系レジストにおける最近の進歩

Author (5)： BYERS J (SEMATECH, TX) ,  PATTERSON K (Univ., Texas at Austin, TX) ,  CHO S (Univ., Texas at Austin, TX) ,  MCCALLUM M (SEMATECH, TX) ,  WILLSON C G (Univ., Texas at Austin, TX)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 11  Issue： 3  Page： 465-474  Publication year： 1998 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： copolymerization ,...
Semi thesaurus term： bridged compound ,...

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JST classification (2)： Copolymerization  (CG04030D) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (3)： Norborn-5-ene-2-carboxylic acid tert-butyl ester ,  Maleic acid anhydride ,  Tetracyclo[6.2.1.1^3,6.0^2,7]dodec-9-en-4-carboxylic acid=tert-butyl

Reference (17)：

• 1). R. D. Allen, I.Y. Wan, G. M. Wallraff, R. A.Dipetro, D. Hofer, R. R. Kunz, J. PhotopolymerSci. Technol. 8 (1995) 623.
• 2). U. Okoroanyanwu, T. Shimokawa, D. Medeiros, C. G. Willson, J. Byers, Q. J. Niu, J. M. J. Frechet, R. D. Allen, Proc. SPIE 3049 (1997) 272.
• 3). D. White, T. Steinhausler, A. J. Blakeney, A. H. Gabor, B. T. Beauchemin Jr. , K. Dean, G.R. Rich,V. Graffenberg, D. Stark. Proc. SPIE 3333 (1998).
• 4). J. Hutchinson, V. Rao, G. Zhang, A. Powloski,C. Fonseca, S. Holl, S. Das, C. Henderson, D.Wheeler Proc. SPIE 3333 (1998).
• 5). a) Ohnishi number=N_total/N_carbon-N_oxygen hasbeen shown to be qualitatively proportional toplasma etch rates. b) H. Goken, S. Esho, Y.Ohnishi, J. Electrochem. Soc. 130 (1983) 423.

Terms in the title (4)： ARF ,  リソグラフィー ,  環状オレフィン ,  レジスト