Art

J-GLOBAL ID：200902195335361226   Reference number：01A0734003

Formation of Vertically Aligned Carbon Nanotubes by Dual-RF-Plasma Chemical Vapor Deposition.

二重RFプラズマ化学気相蒸着法による垂直配向カーボンナノチューブの形成

Author (9)： HIRAO T (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  ITO K (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  FURUTA H (Japan Fine Ceramics Center, Tokyo, JPN) ,  YAP Y K (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  IKUNO T (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  HONDA S (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  MORI Y (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  SASAKI T (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  OURA K (Osaka Univ., Osaka, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 40  Issue： 6B  Page： L631-L634  Publication year： Jun. 15, 2001 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *nanotube ,...

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JST classification (2)： Atomic and molecular clusters  (BH09030O) ,  Semiconductor thin films  (BK14040E)

Reference (7)：

• 1) S. Iijima: Nature 354 (1991) 56.
• 2) W. Z. Li, S. S. Xie, L. X. Qian, B. H. Chang, B. S. Zou, W. Y. Zhou, R. A. Zhao and G. Wang: Science 274 (1996) 1701.
• 3) Z. F. Ren, Z. P. Huang, J. W. Xu, J. H. Wang, P. Bush, M. P. Siegal and P. N. Provencio: Science 282 (1998) 1105.
• 4) Z. P. Huang, J. W. Xu, Z. F. Ren, J. H. Wang, M. P. Siegal and P. N. Provencio: Appl. Phys. Lett. 73 (1998) 3845.
• 5) S. H. Tsai, C. W. Chao, C. L. Lee and H. C. Shih: Appl. Phys. Lett. 74 (1999) 3462.

Terms in the title (4)： RF ,  プラズマ化学気相蒸着法 ,  垂直配向 ,  カーボンナノチューブ