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J-GLOBAL ID：200902215189576941   Reference number：08A0239468

Analysis of Grain Boundary Segregation in Al Alloy Thin Films by Using Molecular Orbital Calculation

分子軌道計算を利用したAl合金薄膜の粒界偏析機構の解析

Author (3)： URAYAMA KOTARO (法政大学大学院工学研究科システム工学専攻) ,  MORI RIE (三菱マテリアル株式会社) ,  TAKAYAMA SHINJI (法政大学大学院工学研究科システム工学専攻)
Material： 日本金属学会誌  (Journal of the Japan Institute of Metals and Materials)
Volume： 72  Issue： 3  Page： 201-205 (J-STAGE)  Publication year： 2008 
JST Material Number： G0023A  ISSN： 0021-4876  CODEN： NIKGAV  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *wiring ,  metallic thin film ,  *aluminum base alloy ,  magnetron sputtering ,  evaporated film ,  heat treatment ,  silver additive alloy ,  gold additive alloy ,  indium additive alloy ,  tin additive alloy ,  concentration dependence ,  *grain boundary segregation ,  *molecular orbital calculation ,  grain boundary diffusion ,  X-alpha method ,  binding energy ,  thermodynamical model ,  HOMO ,  Bond number ,  electrical resistivity ,  temperature dependence ,  energy dispersive X-ray fluorescence analysis ,  interaction
Semi thesaurus term： DV-X alpha method ,  hillock

JST classification (2)： Transformation structures,work structures  (WB01030N) ,  Materials of solid-state devices  (NC03020K)

Reference (12)：

• 1) K. P. Rodbell, D. B. Knorr and J. D. Mis: J. Elec. Mat. 22(1993) 597-606.
• 2) K. Takagi, E. Iwamura, T. Ohnishi and K. Yoshikawa: ASIA DISPLAY '95 (1995) 461-464.
• 3) S. Takayama and N. Tsutsui: SSDM '95 (1995) 318-320.
• 4) S. Takayama and N. Tsutsui: J. Vacuum Sci. Technol. B 14(1996) 3257-3262.
• 5) M. Guttmann and D. McLean: Interfacial Segregation, ed. by W. C. Johnson and J. M. Blakely, (ASM, Ohio, 1979) pp. 261-346.

Terms in the title (5)： 分子軌道計算 ,  Al ,  合金薄膜 ,  粒界偏析 ,  解析