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J-GLOBAL ID：200902225123329132   Reference number：09A0134834

Optimization of Lens Adjustment in Semiconductor Lithography Equipment Using Quadratically Constrained and Second Order Cone Programming

制約2次計画法および2次錘計画法を用いた半導体露光装置用レンズの最適調整

Author (4)： SHINANO YUJI (東京農工大 大学院共生科学技術研究部) ,  YOSHIHARA TOSHIYUKI (キヤノン) ,  MIYASHIRO RYUHEI (東京農工大 大学院共生科学技術研究部) ,  FUKAGAWA YOZO (キヤノン)
Material： 日本機械学会論文集 C編  (Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers. Series C)
Volume： 75  Issue： 749  Page： 157-163  Publication year： Jan. 25, 2009 
JST Material Number： F0045B  ISSN： 0387-5024  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： lithography ,  aberration ,  *optimization ,  mathematical programming ,  interior method ,  lens design
Semi thesaurus term： *半導体露光装置 ,  2次錘計画法 ,  制約2次計画法 ,  *レンズ調整 ,  optimal solution

JST classification (1)： Optical instrument elements and their materials  (QF05020K)

Reference (12)：

• OKAZAKI, S. Semiconductor Lithography Technology for Beginners. 2003, 43-69
• YOSHIHARA, T. New Projection Optics and Aberration Control System for the 45-nm Node. SPIE. 2007, 6520, 652022
• FUKAGAWA, Y. Optimum Adjustment for Distortion in Semiconductor Lithography Equipment. Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers, Series C. 2006, 72, 722, 3378-3382
• SHINANO, Y. Lens System Adjustment in Semiconductor Lithography Equipment. Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers, Series C. 2007, 73, 735, 2982-2987
• NELDER, J. A. A Simplex Method for Function Minimization. Computer Journal. 1965, 7, 308-313

Terms in the title (6)： 制約 ,  2次計画法 ,  錘 ,  計画 ,  露光装置 ,  レンズ